La salle blanche (ou salle propre) est composée de deux pièces où il est possible de restreindre la concentration de particules non désirées, ainsi que de contrôler d’autres facteurs, tels l’humidité et la température. La classe ISO 7, ou classe 10 000, désigne la quantité de particules externes non désirées par mètre cube, en fonction de la nouvelle norme ISO 14644-1. La salle a la possibilité de descendre jusqu’à une classe ISO 6 (classe 1000) dans son ensemble et des huttes individuelles permettent d’atteindre une classe ISO 5 (classe 100) dans leur environnement isolé.

Les classes 10 000, 1000 et 100 sont en fonction de la norme US FED STD 209 D.

Imprimante à jet d'aérosol

Optomec AJ 300CE

Optomec, Parc instrumental, Optech

L’imprimante Aerosol Jet 300 permet l’impression de microsystèmes extrêmement précis (de 10 microns à plusieurs millimètres) sur des surfaces non planes et des bases de circuits tridimensionnels. Elle peut utiliser une grande variété de matériaux, comme des encres à base de nanoparticules conductrices et des impressions d’écrans en divers pâtes, polymères, isolants, adhésifs, substances pour graver. Elle peut notamment imprimer avec des matières biologiques.

Micro-soudeuse de composantes électroniques

Finetech FD7,25HM

Fineplacer, parc instrumental, Optech

Cet appareil est une micro-soudeuse à encre d’une grande précision (sub-micromètres) pouvant exécuter une panoplie de tâches de très petite taille, comme l’assemblage de microsystèmes optoélectromécanique de plusieurs couches.

Évaporateur à faisceau d'électrons

Edwards Auto 306

Edwards Auto 306, Parc instrumental, Optech

L’appareil Edwards Auto 306 est une station d’application de microfilms, servant à évaporer un matériau pour ensuite l’appliquer en couche mince sur une autre surface. Plusieurs ajouts de pièces supplémentaires ont été faits afin d’adapter la machine aux besoins d’Optech. Entre autres, une source de faisceau d’électrons à foyer multiples, EB3, y a été installé afin de pouvoir évaporer des matériaux avec un point de fusion plus élevé que les capacités initiales de la machine ainsi que des matériaux réactifs. Il nous est donc permis, grâce à ce système, d’évaporer des matériaux tels que le titane, le nickel, le cobalt, les oxydes de métaux semi-réfractaires et les oxydes de terres rares.

Aligneuse de masque

Karl Suss 10000054

Karl Suss, parc instrumental, Optech

Cet appareil sert à la production de masques de phase et autres masques par divers procédés. Très utile dans le domaine de la photolithographie, il permet d’aligner et de créer des masques avec une grande précision

Four au plasma

Yield Engineering Systemes R-3

YES, parc instrumental, Optech

Le Yield Engineering system, R-3 permet de faire des nettoyages par plasma. Ce four offre une grande capacité de charge avec des étagères de 12.75’’ x  12,75’’ ainsi qu’une zone de travail de 325 pouces carrés. Cette machine utilise une densité de puissance idéale, soit entre 0,2 et 3,0 watts par pouce carré.  L’utilisation d’oxygène et d’argon permet de nettoyer les oxydes ainsi que les dépôts organiques.

Microscope à force atomique (AFM)

Nanosurf easyScan E-AFM

Cet appareil fonctionne avec la force de répulsion atomique pour calculer très précisément le relief d’une surface, et ce, à l’atome près. Contrairement au microscope à effet tunnel, celui-ci n’est pas limité à l’observation de surfaces conductrices ou semi-conductrices.

Microscope à balayage électronique

HITACHI S-530

Le microscope à balayage électronique Hitachi S-530 produit des images en haute résolution des surfaces d’échantillon prises à l’aide d’un faisceau d’électrons interagissant avec les atomes de l’échantillon analysé. Ce microscope électronique permet de recréer une image en trois dimensions.

 

Mesures photométriques

 

Prototypage par usinage ou impression 3D

 

Photométrie : sphère d’intégration

 

Conditionnement de fibres optiques

 

Goniomètre en champ proche

 

Imagerie specialisée